MiniLab box
coating concept
MiniLab is een "cost effective" multi technique box coater concept voor dunne laag depositie en hierdoor uitermate geschikt voor toepassing in R&D en pilot line productieomgevingen.

  • zeer flexibele configuratie mogelijkheden
  • e-beam, thermisch & OLED (organics) verdampen, sputteren, etsen of een combinatie van deze technieken
  • turbomolecualir en cryo pomp packages
  • complete range sample tooling, heating & cooling stages
  • capaciteit voor het coaten van grote substraten
  • codepositie opties
  • handmatige of volledig automatische processcontrol (PC/PLC)

De MiniLab is een nieuw concept in vacuum depositie, ontworpen door een ervaren team van designers met een achtergrond in UHV deposition technology. De MiniLab is een volledig geintegreerde compacte box coater en staat garant voor professionele resultaten.


   



   
   MiniLab - multi technique box coating concept  

De MiniLab is vanaf het begin als multi-technique systeem ontworpen. Hierdoor is het systeem eenvoudig aan te passen aan systeemconfiguraties die voor vele grotere coating systemen nagenoeg onmogelijk zijn. Het is belangrijk te weten is dat de MiniLab "cost effective" is. Door het modulaire ontwerp is het eenvoudig in een later stadium een uitbreiding te doen wanneer dit nodig is en wanneer het budget het toe laat. In tegenstelling tot andere OEM designs, accepteert de MiniLab zeer veel industriestandaard componenten. Tot op vandaag zijn bijvoorbeeld reeds maar liefst 6 e-beam sources gekwalificeerd in het systeem.

Vacuümkamer
De standaard vacuümkamer is volledig van rvs met de deur aan de voorzijde. De kamer heeft 25x base ports voor plaatsing van sputter- en opdampbronnen en andere (tooling) accessoires. Het is eenvoudig de bronnen en tooling van base ports te wisselen om zodoende snelle aanpassingen in de systeemconfiguratie door te voeren. Twee zijpoorten bieden ruimte voor: front side sample heating, fast actions shutters, thin film heads, gas admission en optische toegang tot het substraat. Drie poorten in de bovenwand van de kamer bieden ruimte aan: sample rotation/positioning, sample heating, thermocouple & sample bias. Het kijkvenster (met optionele shutter) in de deur biedt optische toegang tot de configuratie en substra(a)t(en) in de kamer. De grote (pomp)poort in de achterwand zorgt voor snelle afpomptijden. Naast deze standaard kamer bieden we een grotere D-shaped kamer benodigd voor e-beam configuraties of andere configuraties die meer ruimte vragen. (of sputter-down configuraties)

Configuratievoobeelden
De MiniLab is toepasbaar voor true multi-technique, multi-layer deposition processen, waardoor het concept uitstekend geschikt is voor productie op kleine schaal en R&D prototyping. Om u een idee te geven; een volledig geconfigureerd systeem bevat bijvoorbeeld de volgende technieken:

  • 2 stuks 4 of 6 pocket e-beam sources met auto indexation rotation
  • 4 stuks 4x filament thermal sources met (watergekoelde) doorvoeren geschikt voor hoge stromen. Discrete filament selectie en co-dep mogelijkheid op alle boats tegelijk.
  • 4 stuks 3" flexi-head magnetron sputter sources met multi-kanaals geautomatiseerd gas inlaatsysteem, shutters en laagdiktemeetsysteem.
  • Of een combinatie van bovenstaande technieken in één kamer !

Wij bieden een 6-tal basis configuraties, welke naar uw wens en budget zijn aan te passen:

  • T60M : handmatig bediend thermisch opdampsysteem   BROCHURE
  • T60A : geautomatiseerd thermisch opdampsysteem   BROCHURE
  • S60M : handmatig bediend sputtersysteem   BROCHURE
  • S60A : geautomatiseerd sputtersysteem   BROCHURE
  • E60M : handmatig bediend e-beam systeem   BROCHURE
  • E60A : geautomatiseerd e-beam systeem   BROCHURE

 DOWNLOAD HIER DE ALGEMENE BROCHURE VOOR MEER INFORMATIE, OPTIES EN FOTO'S

Sample stage
De MiniLab is uit te rusten met een single substrate/wafer sample stage met een diameter van ca 160mm. Deze stage kan kleine substraten dragen tot een single 6" wafer. Voor grotere substraten dan 6" of multi substrate processen is het systeem te voorzien van een sample stage met een diameter van maar liefst 370mm. Hiermee concurreert de MiniLab met designs van grote OEM'ers tegen een fractie van de prijs. Het verwisselen van de substraten is eenvoudig door de quick release sample plate. Opties voor de sample stage zijn; rotation, hot or cold stage, bias, z-shift.

Pompsysteem
Standaard vacuumpomp systeem is een 250, 360 of 520l/s turbomoleculairpomp in combinatie met een dual stage rotary vane voorpomp. Andere pomp packages zijn leverbaar zoals bijvoorbeeld een cryo of additionele waterpomp, ook in combinatie met olievrije, droge, voorpomp opties.

System control
De Minilab biedt drie niveau's opties voor system control & operation:

  • handmatig bediend systeem met optionele thin film monitoring
  • geautomatiseerde procescontrole door geavanceerde thin film controller met codep optie
  • nagenoeg volledige automatisering door toepassing van PC/PLC controle en HMI.

Door gebruik te maken van de meest moderne thin film monitoring en control systemen, is de gebruiker is staat eenvoudig multilayer runs in te stellen en deze tijdens het proces stap voor stap te volgen. Ook datalogging is eenvoudig mogelijk voor off-line analyse. Belangrijk om te weten is dat een volledig of half geautomatiseerd systeem nog altijd volledig handmatig is te bedienen zonder PC.